퇴직 후 중국 경쟁 업체 입사를 위해 SK하이닉스의 핵심 공정 기술 등 영업비밀을 유출한 전 직원이 항소심에서도 실형을 선고받았다.
9일 법조계에 따르면 서울고법 형사10-1부(고법판사 이상호·이재신·이혜란)는 산업기술유출방지법 위반 등 혐의로 기소된 김모씨에게 1심과 동일한 징역 1년 6개월을 선고했다.
SK하이닉스 중국 상해사무소 주재원으로 근무하던 김 씨는 중국 경쟁 업체 제출용 이력서를 작성하는 과정에서 CIS(CMOS 이미지 센서) 공정 기술 등 영업비밀 자료 170개(총 5천900장 분량)를 사진으로 찍어 유출한 혐의로 재판에 넘겨졌다. CIS는 스마트폰, 자율주행, 의료기기 등에 널리 쓰이는 핵심 반도체 기술이다.
2심 재판부는 "현지 법인의 보안이 다소 소홀한 점을 이용한 범행으로 죄질이 매우 무겁다"며 엄벌이 불가피하다고 지적했다.
다만 김씨가 피해 회사를 위해 1천만원을 공탁했고 유출된 자료 대부분이 회수된 점 등을 고려해 양형을 결정했다.
한편 검찰은 유출된 기술 중 '하이브리드 본딩' 기술이 국가지정 첨단기술에 해당한다며 1심 판결에 불복해 항소했다.
그러나 재판부는 사건 당시 해당 기술이 산업통상자원부 고시상 첨단기술 범주에 속한다고 보기 어렵다며 검사의 항소를 기각했다.
Copyright ⓒ 경기일보 무단 전재 및 재배포 금지
