삼성·하닉 베테랑, 해외 대신 ‘공공팹’으로···반도체 ‘기술 유출’ 원천 봉쇄

과학기술정보통신부가 반도체 산업에서 축적된 고경력 인력을 연구 현장과 연결해 공공 반도체 인프라의 기술 경쟁력을 강화하는 데 나섰다. [사진=연합뉴스]

[이뉴스투데이 김진영 기자] 과학기술정보통신부가 반도체 산업에서 축적된 고경력 인력을 연구 현장과 연결해 공공 반도체 인프라의 기술 경쟁력을 강화하는 데 나섰다. 민간 반도체 기업에서 오랜 경험을 쌓은 전문가들의 노하우를 공공 연구 장비 운영과 기술 개발에 활용하겠다는 취지다.

과기정통부는 13일 서울 중구 더플라자 호텔에서 반도체 공공팹 연계 플랫폼 ‘모아팹(MoaFab)’ 사업 성과교류회를 열고 반도체 고경력 전문가 활용 사업의 성과와 향후 확대 계획을 공유했다.

모아팹은 국내 14개 공공 나노팹을 하나의 네트워크로 연결해 연구기관과 기업이 첨단 반도체 장비와 공정을 보다 쉽게 활용할 수 있도록 지원하는 통합 플랫폼이다. 정부는 2021년부터 반도체 기업에서 퇴직한 고경력 인력을 공공나노팹 운영에 참여시키는 사업을 추진해 왔다.

현재 사업에는 삼성전자, SK하이닉스, DB하이텍 등 주요 반도체 기업 출신 전문가들이 참여하고 있다. 평균 25년 이상의 경력을 가진 전문가 약 40명이 공공팹에서 활동하며 소자·공정 개발, 장비 설치 및 유지보수, 회로 설계, 측정 평가, 팹 운영 관리 등 다양한 분야에서 역할을 맡고 있다.

정부는 지난해 반도체 3사와 모아팹 기능 고도화를 위한 업무협약(MOU)을 체결한 이후 민간 전문인력의 참여를 확대해 왔다. 이번 성과교류회 역시 향후 공공나노팹에서 반도체 기업 출신 전문가 채용을 추가 확대하기에 앞서 사업 성과를 공유하고 활용 방안을 논의하기 위해 마련됐다.

행사에서는 각 공공나노팹 기관이 추진한 기술개발 사례와 생산 효율화, 설비 관리, 공정 미세화 등에서 나타난 성과가 발표됐다. 기존 연구 인력과 고경력 전문가 간 협업을 통해 공공팹의 운영 효율과 기술 역량이 개선된 사례도 소개됐다.

이번 사업을 통해 과기정통부는 고경력 인력의 경력 단절을 막고 해외 유출을 방지하는 동시에 공공 연구 인프라의 경쟁력을 높이는 효과를 거두고 있다고 보고 있다. 이강우 과기정통부 원천기술과장은 “첨단 반도체 고경력 전문인력 해외유출과 경력 단절을 방지하고, 이들의 숙련된 경험을 공공나노팹에 접목해 보다 나은 서비스 제공이 가능하다는 것을 다시 확인했다”며 “사업 지속 지원과 확대를 추진할 계획”고 말했다.