전직 삼성전자 엔지니어가 중국 CXMT에 핵심 D램 기술을 넘긴 혐의로 징역 7년을 선고받았다. 6년에 걸쳐 약 200만달러를 받은 것으로 조사됐다. 이번 판결은 중국 메모리 산업을 둘러싼 기술 유출 의혹이 단순한 추정이 아니라, 실제 형사 처벌로 이어진 사건이라는 점에서 파장이 크다.
A former Samsung engineer has been sentenced to seven years in prison for leaking core DRAM technology to China’s CXMT in exchange for about $2 million, exposing the depth of industrial espionage in the memory sector.
중국 메모리 업체 CXMT를 둘러싼 기술 유출 의혹이 다시 법원 판단으로 이어졌다. 서울 법원은 삼성전자 출신 엔지니어 전모 씨에게 산업기술보호법 위반 혐의로 징역 7년을 선고했다. 수사와 재판 과정에서는 삼성전자의 핵심 D램 기술이 중국으로 넘어간 정황이 구체적으로 다뤄졌다.
법원이 인정한 범죄 구조는 단순한 자료 반출 수준이 아니었다. 전씨는 삼성전자의 핵심 D램 관련 지식재산을 빼내 CXMT에 전달한 혐의를 받았다. 대가로 받은 금액은 6년간 29억 원 규모다. 여기에는 계약 인센티브 3억 원과 스톡옵션 3억 원도 포함됐다. 반도체 기술 유출이 일회성 접촉이 아니라 장기간에 걸친 조직적 거래였다는 점이 드러난 셈이다.
이번 사건은 이미 이어져 온 일련의 유출 사건과 맞물려 있다. 2025년 2월에는 삼성전자 관리자 출신 김모 씨가 18나노 D램 기술을 CXMT에 넘긴 혐의로 역시 징역 7년을 선고받았다. 최근에는 삼성전자 전직 임직원 여러 명이 CXMT로의 기술 유출 혐의로 추가 기소되기도 했다. 사건이 개별 일탈이 아니라 연속된 흐름으로 이어지고 있다는 점에서 사안의 무게가 더 커졌다.
수사 과정에서 드러난 내용은 더 직접적이다. 검찰은 전직 삼성전자 인력 한 명이 수백 단계의 공정 정보를 유출하고, 그 내용을 수정·검증하는 데까지 관여했다고 판단했다. 그 결과가 중국의 첫 양산 D램으로 이어졌다는 점도 수사에서 짚어졌다. 기술 문서 일부가 아니라 공정 전반의 실행 지식까지 넘어갔다는 의미다.
CXMT의 인력 확보 방식도 함께 도마에 올랐다. 수사기관은 CXMT가 전면에 나서지 않고 페이퍼컴퍼니를 활용해 삼성전자 출신 인력을 유인하고 채용한 정황을 들여다봤다. 반도체 기술 경쟁이 설비 투자와 연구개발을 넘어, 핵심 인력과 공정 노하우를 둘러싼 정보전 양상으로 번지고 있음을 보여주는 대목이다.
또한, 중국 메모리 산업의 기술 추격을 둘러싼 의혹에 사법적 무게를 실었다는 점에서 의미가 있다. 특히 D램은 공정 미세화와 수율 확보, 설계 최적화가 복합적으로 맞물리는 산업인 만큼, 핵심 인력의 이동과 공정 정보 유출은 곧바로 경쟁력 문제로 이어진다. 메모리 업계가 기술 보호와 인력 보안을 더 강하게 다룰 수밖에 없는 배경이다.
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