| 한스경제=김창수 기자 | KBG는 최근 규제가 강화되고 있는 저분자 실록산 제거를 위해 TFE(Thin Film Evaporator) 설비를 도입하고 이를 양산 공정에 적용하기 위한 가동 기술 및 분석 기술 체계를 확립, 사업화 기반을 확보했다고 16일 밝혔다.
저분자 실록산은 전기·전자 분야, 특히 디스플레이 산업에서 전기 접점 오염에 의한 작동 오류와 코팅 공정 불량 등과 같은 성능 저하 및 품질 이슈 주 원인으로 지적돼 왔다. 실제 전기자동차 전장 부품에서 해당 원인에 의한 오동작과 사고 사례가 접수된 바 있다.
또한 이들 물질은 미세플라스틱과 유사한 환경 잔류성이 문제로 대두됨에 따라 EU에서 vPvB(very Persistent and very Bioaccumulative) 물질로 지정해 사용 규제를 강화하고 제품 내 저분자 실록산 함량을 1000ppm 이하로 제한하고 있다. 또 퍼스널케어 및 특정 산업군에서는 그 함량을 150ppm 이하 수준으로 더욱 엄격하게 관리하는 규제가 시행되고 있다.
KBG는 이러한 변화 대응을 위해 2023년 선제적으로 저분자 실록산 제거 공정을 위한 TFE 양산 설비에 투자하고 공정 경험을 축적하며 설비 및 운전 조건을 지속 개선해 왔다. 그 결과 산업 전반에서 가장 엄격한 기준으로 평가되는 저분자 실록산 150ppm 이하 제거 공정 확립에 성공했다.
또한 KBG는 저분자 실록산 함량에 대한 자체 분석 기술을 확보하고 해당 분석 결과 신뢰성 검증을 위해 공인 분석기관들과의 지속적인 상관성 검증을 진행, 저분자 실록산 함량을 정밀 측정할 수 있는 분석 시스템을 구축했다. 이를 통해 엄격한 글로벌 규제 및 고객 요구 수준에 안정적으로 대응할 수 있는 기반을 마련했다.
KBG는 이러한 준비를 바탕으로 저분자 실록산 제거 공정의 본격적인 사업화를 추진하며 친환경·고신뢰 실리콘 소재 시장 경쟁력을 한층 강화해 나갈 계획이라고 밝혔다.
사업을 주관해 온 부삼열 KBG 대표는 “오랜 기간 실리콘 산업에서는 저분자 실록산 제거가 기술적으로 매우 까다로운 공정으로 인식돼 왔으며 그 대안으로 TFE 기반의 정제 기술이 주목받아 왔다”고 말했다.
부 대표는 아울러 “KBG는 단순히 TFE와 같은 설비를 투자하고 이를 사업화하는 데만 초점을 맞추지 않고 그간 축적된 기술과 경험을 토대로 각종 산업군 내 관련 규제로 인해 어려움을 겪는 업체들에게 적절한 수준의 저분자 제거 원재료를 공급하겠다. 또한 최종 제품에 대한 저분자 실록산 함량 분석을 지원함으로써 고객들이 안정적으로 사업을 영위할 수 있도록 돕겠다”고 사업 방향에 대한 의지를 밝혔다.
한편 KBG는 저분자 실록산 제거 사업과 관련해 자동차 전장 및 디스플레이 분야에서 연내 사업화가 가능한 프로젝트들을 이미 수주한 상황이다.
KBG는 이러한 사업 추진을 통해 기존의 실리콘 합성 중심 사업 구조를 넘어 정제(Refinery) 기반 고부가가치 사업으로 사업 영역을 확대할 수 있을 것으로 기대하고 있다.
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