[엠투데이 이세민 기자] 검찰이 삼성전자의 핵심 반도체 기술이 중국으로 유출된 사건과 관련해 전직 임직원 10명을 무더기로 기소했다.
서울중앙지검 정보기술범죄수사부는 23일, 약 2년에 걸친 수사 결과를 발표하며 국가핵심기술 및 영업비밀 국외 유출 혐의로 삼성전자 부장 출신 A씨 등 10명을 기소했다고 밝혔다. 이 중 A씨 등 5명은 구속 상태로 재판에 넘겨졌으며, 나머지 5명은 불구속 기소됐다.
해당 기술은 삼성전자가 약 5년간 1조6,000억 원을 투입해 세계 최초로 개발한 10나노급 D램 공정 기술로, 유출된 정보는 단순 자료가 아닌 공정명, 장비정보, 제조 단계를 모두 담은 핵심 설계도 수준의 PRP(Process Recipe Plan)로 확인됐다.
검찰 수사에 따르면 이들은 2016년부터 삼성전자의 기술을 조직적으로 유출해, 중국 반도체 기업 창신메모리(CXMT)의 D램 개발에 직접적으로 기여했다.
창신메모리는 삼성의 핵심 인력에게 3~4배 수준의 고액 연봉을 제시하며 영입을 시도했고, 1기·2기 개발팀을 운영하며 단계적으로 기술을 확보했다.
특히 A씨는 이직 후 전 삼성전자 연구원 C씨를 통해 600단계에 이르는 공정 정보를 손으로 베껴가며 유출한 것으로 조사됐다.
유출에 가담한 인물들은 위장회사 설립, 우회 입국, 통신기기 회수, 사무실 위치 변경, 출국 시 암호 전달 등의 치밀한 대비책을 갖춘 것으로 드러났다.
실제 A씨는 이미 1건으로 2심에서 징역 6년을 선고받았고, 이번에 추가 기소됐다. 해외 체류 중인 공범 2명은 인터폴 적색수배 및 여권 무효화 조치가 내려졌다.
창신메모리는 2023년 세계 네 번째로 10나노급 D램 양산에 성공했으며, 유출 기술을 기반으로 HBM(고대역폭 메모리) 분야로의 진입도 준비 중이다.
검찰은 이번 유출로 인해 삼성전자와 SK하이닉스 등 국내 반도체 산업이 입을 피해가 최소 수십조 원에 이를 것으로 전망했다. 삼성전자만 해도 작년 기준 매출 감소 추정액이 약 5조 원에 달하는 것으로 분석됐다.
검찰은 “국가핵심기술 유출은 단순한 산업 스파이 행위를 넘어 국가 안보와 직결된 중대한 범죄”라며 “글로벌 반도체 주도권을 위협하는 기술 유출 범죄에 대해 엄정 대응해 나가겠다”고 밝혔다.
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