中, ‘美 봉쇄’에도 EUV 노광장비 시제품 개발 완성···반도체 자립 가속

▲ 시진핑(오른쪽) 중국 국가주석이 지난해 3월 27일(현지시각) 베이징 인민대회당에서 마르크 뤼터 네덜란드 총리와 회담에 앞서 악수하고 있다. 사진=뉴시스

투데이코리아=진민석 기자 | 미국의 강도 높은 반도체 수출 통제에도 중국이 첨단 반도체 생산의 핵심 장비로 꼽히는 극자외선(EUV) 노광장비 시제품을 제작한 것으로 전해졌다. 중국 당국은 이 장비를 활용해 이르면 2028년 첨단 칩을 생산한다는 목표를 세운 것으로 알려졌다.

17일(현지시간) 로이터통신은 복수의 익명 소식통을 인용해 중국 정부가 자체 개발한 EUV 노광장비 시제품을 테스트 중이며, 이를 기반으로 2028년 작동 가능한 반도체 생산을 추진하고 있다고 보도했다. 

일부 관계자는 목표 시점을 2030년으로 보고 있으나, 이는 기존에 최소 10년 이상 걸릴 것으로 예상됐던 전망보다 크게 앞당겨진 일정이라는 평가다.

EUV 노광장비는 현재 네덜란드 ASML이 사실상 독점 생산하고 있으며, 첨단 공정 반도체 제조에 필수적인 장비다. 미국은 중국의 첨단 반도체 역량을 견제하기 위해 네덜란드를 포함한 동맹국들과 공조해 ASML의 EUV 장비 대중(對中) 수출을 차단해 왔다.

이날 소식통들에 따르면 중국의 EUV 개발은 ASML 출신 고연봉 엔지니어들로 구성된 팀이 주도하고 있으며, 이들은 기존 ASML 장비를 분해·분석하는 방식으로 올해 초 시제품을 완성했다. 현재 시제품은 극자외선 생성에는 성공했지만, 실제로 작동 가능한 칩을 생산하는 단계에는 아직 도달하지 못한 것으로 전해졌다.

특히 ASML의 핵심 경쟁력인 초정밀 광학 시스템을 재현하는 데 상당한 기술적 난관이 있는 것으로 알려졌다. 중국은 구형 ASML 장비나 협력업체 부품을 확보하고, 최종 수요자를 감추기 위해 중개업체를 활용하는 방식으로 개발에 필요한 요소들을 조달하고 있는 것으로 전해졌다.

해당 연구는 중국 광둥성 선전의 한 연구시설에서 비밀리에 진행되고 있으며, 시제품은 공장 한 층을 가득 채울 정도로 대형인 것으로 알려졌다. ASML의 상용 EUV 장비가 약 180t(톤) 규모인 점을 감안하면 중국의 시제품은 이보다 더 크고 완성도는 떨어지지만, 시험 운용은 가능한 수준이라는 평가다.

이번 프로젝트는 중국 내부에서 제2차 세계대전 당시 미국의 원자폭탄 개발에 빗대 ‘중국판 맨해튼 프로젝트’로 불리고 있다. 중국의 궁극적인 목표는 미국 기술에 전혀 의존하지 않고, 전 공정을 자국 장비로 수행하는 첨단 반도체 생산 체계를 구축하는 데 있다.

이 과정에서 화웨이가 중국 전역의 반도체 기업과 국영 연구기관, 수천 명의 엔지니어를 조율하는 핵심 역할을 맡고 있는 것으로 전해졌다. 다만 중국 정부와 화웨이는 관련 보도에 대한 로이터통신의 논평 요청에 응하지 않았다.

ASML 측은 “자사 기술을 모방하려는 시도가 있다는 점은 이해하지만, EUV는 단기간에 재현할 수 있는 기술이 아니다(doing so is no small feat)”라며 “ASML 역시 2001년 첫 시제품 개발 이후 2019년 상업 생산까지 수십억 유로를 투입했다”고 밝혔다.

미국은 중국의 첨단 반도체 접근을 차단하기 위해 장비·소프트웨어·설계 전반에 대한 통제를 강화하고 있으며, 네덜란드는 현재까지 중국에 EUV 노광장비 수출을 허용하지 않고 있다.