[엠투데이 이상원기자] 중국 상하이 칩온 마이크로일렉트로닉스 테크놀로지(Shanghai Chip-on Microelectronics Technology)가 자체 개발한 첫 번째 350nm 스테퍼 리소그래피 장비(AST6200)가 공장 검수를 통과, 공식적으로 고객 출하를 시작했다고 26일 발표했다.
스테퍼 리소그래피 장비는 반도체 웨이퍼에 포토마스크의 패턴을 정밀하게 전사하는 노광장비로, 반도체 회로 제작의 핵심 공정 중 하나다.
상하이 칩온 마이크로일렉트로닉스가 이번에 출하를 시작한 노광장비는 350nm 스테퍼 리소그래피 AST6200으로, 전력, RF, 광전자, 마이크로 LED 애플리케이션용으로 설계됐으며, 350nm 분해능, 80nm 전면 오버레이 정확도, 500nm 후면 오버레이 정밀도를 갖고 있는 것으로 알려졌다.
특히, AST6200 리소그래피 장비는 완전 자율적 제어가 가능한 스테퍼 리소그래피 장치로, 전력, 무선 주파수, 광전자 및 마이크로 LED 시나리오에 맞춰 제작됐고, 자체 개발한 풀스택 소프트웨어 제어 시스템을 채택, 완벽한 독립 제어를 구현하는 것으로 알려졌다.
또, 대구경 개구수 투영 렌즈와 다중 조명 모드, 가변 동공 기술을 결합, 350nm의 고해상도를 구현해 현재 주류를 이루는 화합물 반도체 칩의 리소그래피 공정 수준을 달성했다.
상하이 칩온 마이크로일렉트로닉스는 지난 2월 출범한 최첨단 반도체 장비 연구, 개발, 생산 및 서비스를 제공하는 신생 기업이다. 이 회사는 웨이퍼 레벨 고급 패키징 리소그래피 장비, 레이저 어닐링 장비, 프런트엔드 웨이퍼 결함 검출 장비 등을 생산, 공급하고 있다.
상하이 칩온의 AST6200 리소그래피 장비는 여전히 성능, 정밀도 등에서 ASML의 노광장비와는 비교불가지만 중국이 첨단 반도체 리소그래피 장비에서도 독자 생존력을 갖춰 나가고 있다는 점에서 업계의 주목을 끌고 있다.
Copyright ⓒ M투데이 무단 전재 및 재배포 금지
본 콘텐츠는 뉴스픽 파트너스에서 공유된 콘텐츠입니다.
