[엠투데이 이상원기자] SK하이닉스가 차세대 반도체 제조 핵심 장비인 'High NA EUV'를 도입했다.
SK하이닉스는 3일 메모리업계 최초로 양산용 'High(하이) NA EUV'장비를 이천 M16팹(Fab)에 반입했다고 밝혔다.
High NA EUV는 기존 EUV 보다 더 큰 NA를 적용해 해상도를 크게 향상시킨 차세대 노광 장비로, 현존 가장 미세한 회로 패턴 구현이 가능하다.
이번에 도입한 장비는 네덜란드 ASML이 공급하는 트윈스캔 EXE:5200B'모델로, High NA EUV 최초의 양산용 모델이다. 이는 기존 EUV(NA 0.33) 대비 40% 향상된 광학 기술(NA 0.55)로 1.7배 더 정밀한 회로 형성이 가능하고 2.9배 높은 집적도를 구현할 수 있다.
대당 가격이 5천억 원에 달하는 것으로 알려진 이 장비는 현재 전 세계적으로 공급 물량이 10대도 채 안되는 것으로 알려져 있으며 이번 SK하이닉스가 도입한 것과 동일한 장비가 지난 7월 처음으로 인텔에 인도됐다.
SK하이닉스는 첨단 공정에 대비, 한 대를 우선 도입했으며 연말까지 다양한 적용 운전을 거쳐 본격적인 양산을 개시할 예정이다.
SK하이닉스 메모리 반도체 경쟁사인 삼성전자는 ‘High NA EUV’ 장비 한 대를 지난 3월 도입, 양산을 목표로 테스트를 진행 중이다. 삼성은 빠르면 2026년 하반기 이 장비의 양산 적용을 목표로 하고 있다.
SK하이닉스는 High NA EUV 장비 도입과 관련, 지난 2일 이천캠퍼스에서 ASML코리아 김병찬 사장, SK하이닉스 차선용 부사장(미래기술연구원장, CTO), 이병기 부사장(제조기술 담당) 등이 참석한 가운데 장비 도입 기념식을 가졌다.
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