반도체 공정 등 국가 핵심 기술을 중국 회사로 유출한 혐의로 넘겨진 전직 삼성전자 부장이 2심에서 징역 6년을 선고받았다. 지난 1심 징역 7년을 선고받았으나 2심에서 1년 감형됐다.
23일 서울고법 형사8부(부장판사 김성수)는 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 전직 삼성전자 기술팀 부장 김 모씨에게 징역 6년과 벌금 2억원을 선고했다.
이날 재판부는 "피해 회사들의 막대한 피해가 유발될 수밖에 없고 국가에도 악영향을 주는 중대한 범죄를 저지르면서 범행을 주도했다"며 "피해 회복 가능성도 없어 이에 상응하는 엄한 처벌이 필요하다"고 말했다.
다만 재판부는 "김씨는 범죄 전력이 없고, 다니던 회사에서 해고된 뒤 국내에서 재취업이 어렵게 되자 부득이 중국 기업에 취업하면서 범행에 이른 것으로 보인다"며 "삼성전자 핵심 기술 유출에는 관여하지 않은 점 등을 고려해 원심보다 낮은 형을 선고한다"고 밝혔다.
지난 2월 1심 재판부는 김씨에게 징역 7년과 벌금 2억원을 선고하면서 "건전한 경쟁을 심각하게 저해하고 이를 만든 피해 회사의 막대한 시간과 비용을 헛되게 할 뿐 아니라 실제로 대한민국 국가 산업 경쟁력에 큰 악영향을 줄 수 있는 중대한 범죄"고 지적했다. 징역 7년은 기술 유출 범죄에 대한 1심 판결 중 최고 형량이다.
김 씨는 삼성전자의 18나노 D램 반도체 공정 정보를 무단 유출해 중국 반도체 제조업체 창신메모리테크놀로지(CXMT)의 제품 개발에 사용하게 한 혐의를 받고 있다. CXMT는 중국 유일의 D램 생산업체다. 검찰이 파악한 유출 기술자료의 개발비용은 총 736억원이다.
검찰은 김씨가 2016년 CXMT로 이직하면서 반도체 핵심 정보를 유출하고 수백억원대 금품을 수수한 것으로 보고 있다. 검찰은 지난해 4월 김씨 등을 재판에 넘기며 중국 현지 법인도 양벌규정으로 함께 기소했다．
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