SK하이닉스의 핵심 반도체 기술을 중국 화웨이에 유출한 혐의를 받은 중국인 여성이 항소심에서 원심보다 형량이 늘어난 징역 5년을 선고받았다.
뉴시스 보도에 따르면, 7일 수원고법 형사2-1부(고법판사 김민기 김종우 박광서)는 중국 국적 A씨의 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의 항소심 선고 공판을 열고 원심을 파기한 뒤 징역 5년에 벌금 3000만원을 선고했다.
앞서 1심은 A씨에게 징역 1년6개월에 벌금 2000만원을 선고한 바 있다.
재판부는 "피고인은 경쟁 회사로 이직하면서 피해 회사가 다년간 연구하고 개발한 반도체 연구 성과물과 영업비밀이 들어있는 문서를 유출했다"며 "피고인은 유출 범행 시점에 화웨이로 이직해 메모리 관련 업무를 맡을 것을 예상했고, 이직 시 과도하게 높은 연봉을 받은 것도 기술 대가로 보여질 여지가 있다"고 말했다.
이어 "국외 유출된 국가핵심기술이 회수되지 않아 피해 회사와 대한민국의 피해를 가늠하기 어렵다"며 "이러한 범죄는 국내 기업 생존기반을 위태롭게 하는 등 엄하게 처벌할 필요가 있다"고 전했다.
A씨는 2013년 SK하이닉스에 입사해 반도체 설계 불량을 분석하는 업무를 맡아오다가 2020년 중국 법인으로 파견됐다. 이후 2022년까지 중국 법인에서 기업 간 거래 고객 상담 팀장급 업무를 맡았다.
그러던 2022년 6월 국내로 들어온 A씨는 같은 달 기존 연봉보다 높은 연봉을 받고 화웨이로 이직했다.
그는 이 과정에서 SK하이닉스의 핵심반도체 기술 구현을 위한 공정 문제 해결책 관련 자료 출력해 화웨이에 유출한 혐의로 기소됐다. A씨가 출력한 자료는 3000여 장 분량으로 전해졌다.
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