'中에 반도체 기술유출' 삼성전자 전 직원에 징역 20년 구형

검찰 "국가·피해기업 기술적 기반 흔들 수 있는 중대 범죄"

법원

<<서울고등법원 제공>> 서울중앙지법과 서울고등법원이 함께 쓰고 있는 서울 서초동 법원청사 전경. 전경

(서울=연합뉴스) 한주홍 기자 = 검찰이 반도체 핵심 기술을 중국 회사에 유출한 혐의를 받는 삼성전자 전직 부장에게 1심에서 징역 20년을 구형했다.

검찰은 12일 서울중앙지법 형사25부(지귀연 부장판사) 심리로 열린 김모씨의 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의 결심공판에서 징역 20년을 선고해달라고 요청했다.

김씨와 함께 재판에 넘겨진 협력업체 전직 직원 방모씨에게는 징역 10년을 구형했다.

검찰은 "기술 유출 범죄는 국가와 피해 기업의 기술적 기반을 흔들 수 있는 중대 범죄"라며 "제2, 제3의 범죄가 발생하지 않도록 엄정한 법 집행을 통해 경종을 울려야 한다"고 강조했다.

김씨는 최종진술에서 "중국 CXMT(창신메모리테크놀로지)의 모든 자료는 CXMT의 경영층과 박사급들이 만들어내는 자료로, 제가 만들 수 있는 자료는 일부에 불과하다"며 "물의가 발생한 데 대해 진심으로 사죄한다"고 말했다.

선고는 내년 1월 22일 이뤄질 예정이다.

김씨는 국가 핵심기술인 삼성전자의 18나노 D램 반도체 공정 정보를 무단 유출해 중국 기업 CXMT가 제품 개발에 사용하게 한 혐의로 지난 1월 기소됐다.

방씨는 김씨와 공모해 반도체 장비를 납품하는 A사의 설계기술자료를 CXMT에 넘긴 혐의를 받는다.

CXMT는 설립 수년 만에 중국의 주요 D램 반도체 업체로 빠르게 성장해 한국과 미국 경쟁사들과 기술 격차를 좁혀나가고 있다.

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