再生污水变超纯水源 韩国加速半导体超纯水国产化进程

据韩国水资源公社27日消息，公社本月获得产业通商资源部的60亿韩元（约合人民币3212万元）研究经费支援，计划与美国耶鲁大学研究团队合作开发利用再生污水作为半导体超纯水源水的技术。目前，韩国三星和SK正在京畿道龙仁和平泽等地建设新的大型半导体工业园区，并为增加供水正在推进再生污水使用方案。

再生污水中存在特定的低分子有机物，直接使用会对超纯水生产设施造成影响，因此企业普遍对再生污水使用持谨慎态度。目前也尚无解决这一问题的商业化技术，对此，水资源公社决定与耶鲁大学化工系水中心合作，计划在2028年之前开发出可以把再生污水用作超纯水源水的水处理技术。

水资源公社研究员李景赫（音）博士强调，全球最大的晶圆代工企业台积电（TSMC）也正在研究把再生污水用于超纯水的方法，如果这项水处理技术实现商业化，韩国半导体工厂所需的水供应有望变得更加便捷。

此外，水资源公社与SK Siltron使用国产设计技术、设备和材料的超纯水开发也成功在即。原本计划8月起在半导体晶圆生产现场投入使用国产超纯水，但因质量测试延迟，目前尚未实现。

韩国超纯水国产化项目分为两个阶段进行，第一阶段使用进口设备和材料实现设计国产化，第二阶段则包括设计技术在内，所有设备和材料都实现国产化。第一阶段已在今年5月完成，第二阶段正在进行当中。

第二阶段原本预计在8月完成并投入生产现场，但最终质量测试有所延迟。目前项目执行企业SK Siltron计划在自家晶圆上进行测试，水资源公社则委托中国台湾企业进行测试。水资源公社预计在10月左右可以得出可视化结果。

超纯水用于清洗半导体晶圆（硅晶片）上的杂质，是去除无机物和细菌等的极度精制水。超纯水在半导体行业至关重要，但韩国在1983年首次生产晶圆以来，超纯水一直依赖进口。截至2028年，全球半导体用超纯水市场规模预计增长至大约9.5万亿韩元。

水资源公社和SK Siltron计划实现超纯水生产技术国产化，并运营一座单日产量2400吨超纯水的示范工厂。两家企业还计划投入443亿韩元，在超纯水开发所需的技术和设备上也实现国产化。
 

三星电子3D NAND闪存晶圆【图片来源 三星电子】