환경과학원, 온실가스공정시험기준 개정…반도체 업종 배출량 산정

적외선흡수분광법으로 측정

국립환경과학원 전경. ⓒ국립환경과학원

국립환경과학원은 반도체 및 디스플레이 업종의 온실가스 배출·감축량을 정확하게 산정할 수 있도록 온실가스공정시험기준을 개정, 홈페이지에 12일 공개한다.

온실가스공정시험기준은 사업장에서 배출하거나 대기 중 존재하는 온실가스 농도를 정확하게 측정하는 시험방법을 뜻한다.

국립환경과학원은 반도체와 디스플레이 업종에서 배출하는 온실가스 농도를 적외선흡수분광법으로 측정해 감축 활동에 대한 정량평가가 가능해졌다.

또한 감축시설 저감 효율 측정뿐만 아니라 공정 과정 중에 쓰이는 온실가스(육불화황 등)의 사용 비율을 평가하고 이때 발생하는 부생 가스(사불화탄소 등)에 대한 측정까지 가능해진다.

개정 온실가스공정시험기준은 지난해 11월 사전 행정예고를 통해 국민 의견을 반영하고, 이후 수정안에 대해 관련 전문가·관계 기관 검토를 거쳐 마련했다.

개정된 온실가스공정시험기준은 국립환경과학원 홈페이지 및 법제처 국가법령정보센터에서 누구나 확인할 수 있다.

유명수 국립환경과학원 기후대기연구부장은 “이번 온실가스공정시험기준 개정은 반도체와 디스플레이 업종 탄소중립 노력에 대한 정량평가 기준 수립에 의의가 있다”며 “앞으로도 이를 활용해 기술경쟁력뿐만 아니라 온실가스 감축에 대한 선도적인 역할 기반을 확보하겠다”고 말했다.

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