가천대·코넬대, 차세대 반도체 배선 후보 'NbAs' 특성 첫 실증

가천대학교는 반도체공학과 진강태 교수 연구팀이 미국 코넬대 연구진과 함께 기존 구리(Cu)를 대체할 차세대 반도체 배선 소재인 '위상금속 NbAs(나이오븀 아세나이드)'의 우수한 전기적 특성을 세계 최초로 실증했다고 20일 밝혔다.

위상금속은 전자가 특별한 방식으로 잘 흐르는 금속성 물질로, 초미세 반도체 배선에서 구리의 한계를 보완할 후보 소재로 알려져 있다.

진강태 교수는 "구리 기반 배선 기술이 한계에 다다른 상황에서 위상금속 배선의 새로운 전도 메커니즘을 실험적으로 확인했다"며 "이번 연구가 미래형 반도체 인터커넥션 기술 개발의 중요한 전기가 될 것"이라고 말했다.