반도체 국가핵심기술 중국 유출…전현직 연구원 징역형

반도체 웨이퍼 연마(CMP) 관련 기술을 중국에 유출한 혐의로 기소된 국내 대기업·중견기업 전·현직 직원들에게 징역형이 선고됐다.

대전지법 제12형사부(김병만 부장판사)는 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 국내 모 기업 전 연구원 A(59)씨에게 징역 2년6개월을 선고했다고 3일 밝혔다.

국내 3개 대기업·중견기업 전·현직 직원인 이들은 컴퓨터·업무용 휴대전화로 회사 내부망에 접속해 반도체 웨이퍼 연마 공정도 등 회사 기밀자료를 열람하면서 개인 휴대전화로 촬영하는 수법 등으로 확보한 자료를 중국 업체에 유출한 혐의로 재판에 넘겨졌다.