ASML EUV 광원 1kW… 2030년까지 칩 생산 50% ‘업그레이드’로 생산 효율 높인다
뒤로가기

3줄 요약

본문전체읽기

ASML EUV 광원 1kW… 2030년까지 칩 생산 50% ‘업그레이드’로 생산 효율 높인다

급기야 ASML은 ‘장비 업그레이드’라는 해법을 대안으로 내세웠다.

EUV 노광 장비의 심장부인 광원(light source) 출력을 600W에서 1,000W(1kW)로 끌어올려, 오는 2030년까지 생산량을 50% 늘리겠다는 구상이다.

ASML 마이클 퍼비스는 현장에서 요구되는 조건을 만족하면서 1,000W를 안정적으로 구현 가능한 시스템이라고 강조했다.

뉴스픽의 주요 문장 추출 기술을 사용하여 “위클리 포스트” 기사 내용을 3줄로 요약한 결과입니다. 일부 누락된 내용이 있어 전반적인 이해를 위해서는 본문 전체 읽기를 권장합니다.

이 콘텐츠를 공유하세요.

알림 문구가 한줄로 들어가는 영역입니다

이 콘텐츠를 공유하세요.