차세대 지능형 반도체의 고질적인 문제인 '데이터 소실'을 해결할 수 있는 핵심 기술을 국내 연구진이 개발했다.
안승언 한국공학대학교 반도체공학부 교수 연구팀은 하프늄 산화물(HfO₂) 기반 강유전체 소재의 데이터 보존 신뢰성을 10년 이상 확보하는 데 성공했다고 19일 밝혔다.
해당 기술을 적용한 결과, 데이터 보유율을 90% 이상 유지하며 10년 이상 안정적인 저장이 가능함을 확인했다.
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