'2나노 기술 유출' 대만 TSMC 전 직원에 8년8개월형 구형
6일 자유시보와 중국시보 등 대만언론에 따르면 전날 대만 고등검찰서는 지난해 8월 2나노 기술 유출 혐의로 기소된 TSMC 전 직원 천리밍에 대한 추가 조사에서 또 다른 관련자 2명을 찾아냈다면서 이같이 밝혔다.
검찰은 천리밍은 회사 모니터에서 휴대전화로 촬영한 2나노 공정 관련 기밀 자료를 천씨에게 받아 TEL 클라우드 드라이브에 올렸다고 덧붙였다.
대만 고등검찰서는 지난해 8월 국가안전법상 '국가핵심 관건기술 영업비밀의 역외사용' 혐의 등을 적용해 천리밍등 3명을 기소했고, 천씨 등 2명을 추가로 기소했다.
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