SK하이닉스, 세계 최초 고개구수 EUV 장비 이천 M16 팹에 투입
SK하이닉스는 3일 메모리 업계 최초로 양산용 ‘High NA EUV’ 장비를 이천 M16 팹에 반입하고 기념행사를 진행했다.
도입된 장비는 네덜란드 ASML의 ‘트윈스캔 EXE:5200B’ 모델로 High NA EUV 기술이 적용된 최초의 양산 장비다.
High NA EUV는 기존 EUV 기술의 물리적 한계를 극복하기 위한 차세대 노광 기술이다.
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