SK하이닉스, 차세대 양산용 노광장비 ‘High NA EUV’ 도입

SK하이닉스가 고부가가치 메모리 시장 입지 강화를 위해 한층 더 발전한 노광 장비를 도입했다.

해당 장비는 네덜란드 ASML의 ‘트윈스캔 EXE:5200B’로, High NA EUV 최초의 양산용 모델이며 기존 EUV(NA 0.33) 대비 40% 향상된 광학 기술(NA 0.55)로 1.7배 정밀한 회로 형성과 2.9배 높은 집적도의 구현할 수 있다.

차선용 SK하이닉스 CTO는 “이번 장비 도입으로 회사가 추진중인 미래 기술 비전을 실현하기 위한 핵심 인프라를 확보하게 됐다”며 “급성장하는 AI와 차세대 컴퓨팅 시장이 요구하는 최첨단 메모리를 가장 앞선 기술로 개발해 AI 메모리 시장을 선도하겠다”고 밝혔다..