삼성전자-존스홉킨스대, 차세대 펠티어 냉각 기술로 ‘R&D 100 어워드’ 수상
삼성전자와 존스홉킨스대학교 응용물리학연구소(APL)가 공동 개발한 ‘차세대 펠티어 냉각 기술’이 세계적 권위의 ‘2025 R&D 100 어워드’에서 ‘100대 혁신 기술’로 선정됐다.
이번에 수상한 기술은 삼성리서치 라이프솔루션팀과 존스홉킨스대 연구진이 세계 최초로 나노 공학을 활용해 개발한 ‘고성능 박막 펠티어 반도체 소자’다.
삼성전자 삼성리서치 라이프솔루션팀 이준현 부사장은 "상용화 가능한 과학 기술을 평가하는 세계적 권위의 'R&D 100 어워드'를 수상하게 되어 큰 영광"이라며, "차세대 펠티어 냉각 기술이 혁신성과 실용성을 동시에 인정받았다는 점에서 큰 의미가 있다"고 말했다.
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