김명웅 인하대학교 화학·화학공학융합학과 교수, 이진균 고분자공학과 교수 공동연구팀이 새로운 개념의 반도체·디스플레이 생산 공정용 포토레지스트 소재 기술을 제안했다.
연구팀은 포토레지스트 소재에 빛을 받으면 고분자 사슬이 분해되고, 구조가 변화하면서 물리·화학적 성질이 달라지는 반응 메커니즘을 적용했다.
김명웅 화학·화학공학융합학과 교수는 “이번 연구는 고분자 화학 기초 원리 탐구에서 출발해 포토레지스트 성능을 극대화하기 위한 연구”라며 “앞으로 이를 기반으로 기초 원리 이해 연구부터 다른 응용 분야로 확장된 연구로 발전시킬 계획”이라고 밝혔다.
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