삼성전자가 파운드리 사업에서 TSMC와의 격차를 좁히지 못하는 주요 이유에는 미세공정 수율의 차이가 거론된다.
이후 삼성전자의 3나노 공정의 수율이 50~60%로 개선됐다는 추정이 나왔지만 TSMC의 수율이 90%로 앞섰다.
현재 삼성전자의 2나노 공정의 수율은 30~40% 수준으로 알려졌다.
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