'SK하이닉스 핵심 기술' 유출 중국인, 2심서 형량 늘었다

SK하이닉스의 핵심 반도체 기술을 중국 화웨이에 유출한 혐의를 받은 중국인 여성이 항소심에서 원심보다 형량이 늘어난 징역 5년을 선고받았다.

재판부는 "피고인은 경쟁 회사로 이직하면서 피해 회사가 다년간 연구하고 개발한 반도체 연구 성과물과 영업비밀이 들어있는 문서를 유출했다"며 "피고인은 유출 범행 시점에 화웨이로 이직해 메모리 관련 업무를 맡을 것을 예상했고, 이직 시 과도하게 높은 연봉을 받은 것도 기술 대가로 보여질 여지가 있다"고 말했다.

그는 이 과정에서 SK하이닉스의 핵심반도체 기술 구현을 위한 공정 문제 해결책 관련 자료 출력해 화웨이에 유출한 혐의로 기소됐다.