SK하이닉스 '핵심 기술 유출' 중국인, 항소심서 형량 늘어
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SK하이닉스 '핵심 기술 유출' 중국인, 항소심서 형량 늘어

SK하이닉스의 핵심 반도체 기술을 중국 화웨이에 유출한 혐의를 받은 중국인 여성이 항소심에서 징역 5년을 선고받았다.

그는 이 과정에서 SK하이닉스의 핵심 반도체 기술 구현을 위한 공정 문제 해결책 관련 자료 출력해 화웨이에 유출한 혐의로 기소됐다.

재판부는 "피고인은 유출 범행 시점에 경쟁 회사인 화웨이로 이직해 피해 회사가 다년간 연구하고 개발한 반도체 연구 성과물과 영업비밀이 들어있는 문서를 유출했다"며 "피고는 본인이 화웨이에서 메모리 관련 업무를 맡을 것을 예상했고, 이직 시 과도하게 높은 연봉을 받은 것도 기술 대가로 보일 여지가 있다"고 덧붙였다.

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