'반도체 기술 중국 유출' 삼성전자 전 부장 1심서 징역 7년 선고
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'반도체 기술 중국 유출' 삼성전자 전 부장 1심서 징역 7년 선고

법원이 19일 반도체 핵심 기술을 중국 회사에 유출해 재판에 넘겨진 삼성전자 전(前) 부장에게 1심에서 징역 7년을 선고했다.

김씨는 국가 핵심기술인 삼성전자의 18나노 D램 반도체 공정 정보를 무단 유출해 중국 기업인 창신메모리테크놀로지(CXMT)에 넘긴 혐의를 받는다.

검찰은 김씨가 지난 2016년 CXMT에 이직하며 반도체 '증착' 관련 자료와 7개 핵심 공정 관련 기술 자료를 유출하고 수백억원대 금품을 수수했다고 보고 지난해 1월 구속기소 했다.

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