GIST, 친환경 건식 포토레지스트 개발

광주과학기술원(GIST)은 화학과 홍석원 교수 연구팀이 포항가속기연구소(PAL) 황찬국 박사 연구팀과의 공동연구를 통해 나노 미세 집적회로 제작을 위한 극자외선(EUV) 반응 포토레지스트를 개발하고, PAL 10D 빔라인의 EUV를 이용하여 나노 패턴을 구현함으로써 친환경 열기반 건식공정법을 개발했다고 17일 밝혔다.

연구팀은 자체 개발한 포토레지스트를 활용해 100 mJ/cm2 이하의 노광량에서도 충분히 반응하여 더 이상 추가적인 변화가 없는 상태에 도달하는 뛰어난 극자외선 감도를 지닌 물질을 합성했으며, 여기에 최적화된 열기반 건식 공정법을 통해 80 nm 수준의 나노 패턴을 구현하는 데 성공했다.

금속-리간드 구조를 최적화하여 뛰어난 광반응성과 승화성을 확보했으며, 새로운 열기반 건식 공정법을 적용함으로써 높은 감도를 유지하면서도 나노 패턴을 구현할 수 있음을 확인했다.