삼성전자, 美공장 2나노로 진격···빅테크에 파운드리 명운 걸렸다
반도체법(Chips Act)에 따라 미국에서 47억4500만달러(약 6조8800억원)의 보조금을 받는 대신 현지에 370억달러(약 53조5131억원)를 투자해 2개의 팹(Fab)과 1개의 R&D(연구개발) 시설을 짓고 2나노 공정 위주의 반도체를 생산하겠다고 밝힌 것이다.
당초 4·2나노 칩 생산 계획을 2나노 칩 생산으로 수정한 셈이다.
특히 2027년 공정 비중은 3나노(19.1%), 5·4나노(15.1%)에 이어 세 번째에 달하는 수치다.
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