기존 1a, 1b 대비 트랜지스터 크기를 줄이고 EUV 공정 비중을 확대해 고집적·저전력 특성을 확보하기 위함이다.
삼성전자는 5세대인 HBM3E의 양산 시점에서 SK하이닉스에 선두를 빼앗겼다.
SK하이닉스는 이미 지난해 8월 10나노급 6세대(1c) DDR5 D램을 개발했다고 발표한 바 있다.
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