어플라이드 머티어리얼즈가 전자빔 계측 시스템 베리티SEM 10을 24일 발표했다.
베리티SEM 10(VeritySEM 10)은 EUV(극자외선) 및 새롭게 부상하는 High-NA EUV 리소그래피 공정으로 패터닝된 반도체 디바이스 소자의 패턴 거리측정(CD)을 정밀하게 측정하도록 설계됐다.
반도체 디바이스 소자의 패턴 거리측정은 EUV, 특히 High-NA EUV 공정에서 포토레지스트 두께가 얇아지면서 점점 어려워지고 있다.
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